納米氫氧化鎂研磨分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。
納米氫氧化鎂研磨分散機(jī)，氫氧化鎂分散機(jī)，納米分散機(jī)，納米氫氧化鎂研磨分散機(jī)，納米研磨分散機(jī)
氫氧化鎂是塑料、橡膠制品優(yōu)良的阻燃劑。在環(huán)保方面作為煙道氣脫硫劑，可代替燒堿和石灰作為含酸廢水的中和劑。亦用作油品添加劑，起到防腐和脫硫作用。另外，還可用于電子行業(yè)、醫(yī)藥、砂糖的精制，作保溫材料以及制造其他鎂鹽產(chǎn)
在幾乎不影響使用強(qiáng)度的情況下顯著提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能，還可根據(jù)客戶(hù)需要，在納米氫氧化鎂生成同時(shí)采用適當(dāng)?shù)脑桓男苑椒?，為阻燃?xì)溲趸V。
納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質(zhì)當(dāng)中（如橡膠），從而改性物料的特性，z大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級(jí)的粉末分散到液體介質(zhì)當(dāng)中容易出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象，一般的分散設(shè)備無(wú)法解決這一難點(diǎn)，而SGN研磨式分散機(jī)可以很好的應(yīng)對(duì)團(tuán)聚的現(xiàn)象。
SGN納米氫氧化鎂分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）
GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
?第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 氫氧化鎂分散機(jī) 納米分散機(jī) 納米研磨分散機(jī)
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